2010年度給付奨学生からのメッセージ

斎藤　晃広（武岡研　Ｍ２）

　この度、2010年度応化会給付奨学生として採用して頂きありがとうございます。選考にあたり本奨学金の選考に推薦してくださいました推薦委員会の皆様、ご多忙の中お時間を割いていただきまして深く感謝致します。また、本奨学金へ寄付してくださった諸先輩方に厚く御礼申し上げます。今後も皆様方の期待に応えられるよう、博士課程進学後も一生懸命研究に邁進して参ります。

　現在、私は医用高分子からなる超薄膜(ナノシート)を構築し、機能化する研究を行っております。抗生物質や成長因子をナノシート内に担持することで、創傷部の抗菌や治癒を促進するバイオマテリアルの開発を目指しております。現在、私は生命医科学専攻に籍を移して研究活動を行っておりますが、応用化学科で培った知識と経験を忘れずに、今後、より一層精進し、早稲田応用化学会の発展に少しでも貢献できればと思います。

　最後に、早稲田応用化学会の皆様方に重ねて御礼申し上げます。 　


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筑紫　翔（菅原研　Ｍ２）

　この度は、2010年度早稲田応用化学会奨学生として採用していただき、深く感謝致します。ご多忙の中選考を行って下さった推薦委員会委員の皆様をはじめ、応用化学会の皆様応にはこの場を借りて厚く御礼申し上げます。応用化学会の貴重な財源から捻出された本奨学金を賜ることは、皆様からの期待を背負うことと同義であり、その期待に沿えられるよう勉学に一層精進する所存です。

　現在私は、安定有機ラジカルを構造単位に持つ親水性高分子の合成と有機薄膜デバイスへの応用をテーマに研究実験を進めております。有機合成化学、高分子化学、電気化学といった幅広い知識が要求されるため、知識が追い付かず、自身の勉強不足を感じることも多いのですが、その奥深さに魅力を感じ、充実した日々を送っております。

　博士後期課程進学後は、ご支援頂いた皆様のお心に応えるべく、また応用化学会の発展に寄与できるよう微力ながら貢献していきたいと思います。

　最後に、早稲田応用化学会の皆様に重ねて御礼申し上げます。


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林　政平（本間研　Ｍ２）

　私は台湾からの留学生です。今回は、早稲田応用化学会給付奨学生に採用して頂き、大変光栄です。本間先生と研究室の皆さんのおかげで、日本での生活や研究など、うまくいきました。今回、推薦委員の皆様方におかれましては、私に貴重な機会をくださり、また応用化学会の皆様には生活の負担を減少していただいたことに誠に感謝いたします。

　近年では、効率性を向上させると先端的な応用のために、大規模集積回路の電子的要素と他の電子機器のfeature sizeは徐々に超小型構造にします。スケールダウンが進むほど、デバイス作製のコストが高くなります。また、大量生産ができません。なお、製造プロセスもスケールダウンにともない複雑になっていきます。このような問題を解決するためにナノインプリントプロセスは有望な手法の一つです。ナノインプリントプロセスの基本的な原理は大きさ数十nmの突起構造がある金型を押すことで、レジスト塗布をした基板上にナノパターンを形成するものです。ナノインプリントプロセスの利点は高生産性や、簡便な操作、低コスト、ナノサイズでの高精度などが挙げられます。私の研究はナノインプリントプロセスの金型を精密に作製することに着目しています。

　最後に、早稲田応用化学会の皆様に重ねて御礼申し上げます。


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